Self Aesthetic Poreclean Bubble Mask

Beschrijving:

Het G9SKIN Self Aesthetic Poreclean Bubble Mask is een zacht geformuleerd masker dat belletjes kan genereren om de huid te helpen reinigen en de poriën te vernauwen. Het bamboe houtskool blad verwijdert talg en dode huidcellen, terwijl het  de poriën vernouwt. De fijne koolzuurbelletjes masseren de huid en helpen om ingesloten vuil los te maken.

Instructies:

• Verwijder de Face Mask uit de verpakking en plooi open
• Plaats het masker op het gezicht en laat het 10-20 minuten inwerken
• Verwijder het masker en dep de huid zachtjes totdat het volledig geabsorbeerd is.

Ingrediënten (EN)

Water, glycerin, cocamidopropyl betaine, dipropylene glycol, disiloxane, methyl perfluorobutyl ether, methyl perfluoroisobutyl ether, butylene glycol, water (carbonated water), castanea crenata (chestnut) shell extract, artemisia vulgaris extract, brassica oleracea acephala leaf extract, houttuynia cordata extract, triticum vulgare (wheat) sprout extract, brassica oleracea italica (broccoli) extract, phaseolus angularis seed extract, coix lacryma-jobi ma-yuen seed extract, arachis hypogaea (peanut) fruit extract, panax ginseng root extract, panax ginseng root extract, dioscorea japonica root extract, codonopsis lanceolata root extract, platycodon grandiflorum root extract, ginkgo biloba leaf extract, kaolin, salicylic acid, betaine salicylate, camellia sinensis leaf extract, vitis vinifera (grape) fruit extract, diospyros kaki fruit extract, nelumbo nucifera flower water, eucalyptus globulus leaf extract, origanum vulgare leaf extract, hibiscus sabdariffa flower extract, hedera helix (ivy) leaf extract, linum usitatissimum (linseed) seed extract, salvia hispanica seed extract, pinus sylvestris leaf extract, sodium cocoyl apple amino acids, hydroxyethylcellulose, sodium chloride, tetrasodium glutamate diacetate, alcohol, 1,2-hexanediol, disodium edta, hexylene glycol, ethylhexylglycerin, phenoxyethanol, fragrance.